氧化铝陶瓷坩埚满足半导体等新兴领域对洁净与界面控制的需求
2026-01-30
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氧化铝陶瓷坩埚是以高纯α-氧化铝为原料，经高温烧结而成的高性能实验室与工业用耐火容器，凭借良好的耐高温性、化学惰性与热稳定性，成为熔融、灼烧、灰化及高温反应中的载体。氧化铝陶瓷坩埚性能远超石英、刚玉或金属坩埚，在材料合成、贵金属提纯及分析化学领域备受青睐。
一、核心性能优势
超高耐温：
可长期使用于1600℃以下，短期承受1750℃高温，远高于石英（约1100℃）和普通陶瓷；
强化学惰性：
对酸、碱、熔盐及多数金属熔体（如金、银、铜、铋）几乎无反应，避免样品污染；
低热膨胀系数；
抗热震性优异，可承受快速升降温（如从1000℃投入室温水中不裂），适用于程序控温实验；
高纯低析出：
杂质含量低，确保痕量分析（如ICP-MS）结果不受干扰。
二、典型应用场景
分析化学：
用于样品灰化（如食品、生物组织）、硫酸盐灰分测定（ASTMD482）及XRF熔片制备；
材料合成：
高温固相反应、单晶生长、荧光粉烧结等需洁净环境的工艺；
冶金与贵金属：
金、铂等贵金属熔炼与提纯，因其不润湿、不合金化；
半导体与电子：
高纯氧化物前驱体煅烧，避免金属离子污染。
三、规格与选型要点
纯度分级：
95%Al2O3适用于一般高温作业；99.5%以上用于高纯或半导体领域；
形状多样：
常见高型、扁型、带嘴、带盖等，容量从5mL至500mL可选；
壁厚设计：
厚壁型抗机械冲击强，薄壁型升温快、热响应灵敏。
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